设备简介:
VGF-100型单晶生长设备为电阻加热垂直单晶生长炉,主要包括炉体、加热系统、真空系统、控制系统四部分组成。主要用于高质量低位错密度磷化铟、锑化镓、等单晶材料生长制备,可根据具体需求进行设计定制。
设备特点:
●整机效率高。整机效率可达95%
●生产效率高,最大晶体生长尺寸达6英寸,可根据具体需求设计定制
●采用多温区石墨加热,专业设计热场稳定,最高温度达2000℃
●整个控制系统均为数字集成化,控制精确,操作简单
技术参数: