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膜厚测量仪
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膜厚测量仪
报价: 可面议 -可面议
型号:F20
产地: 国外
品牌:KLA-Filmetrics
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产品介绍

一、 简介

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量,其测量范围从nm-mm,可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量,被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品,可测量从几mm到450mm大小的样品,薄膜厚度测量范围1nm到mm级。

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和 折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应 (绝大多数薄膜都是旋转对称)。 因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。 而且具有快速,简便,成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。


一、 主要功能

l  主要应用

测量厚度、折射率、反射率和穿透率:

Ÿ   单层膜或多层膜叠加

Ÿ   单一膜层

Ÿ   液态膜或空气层

l  技术能力

光谱波长范围:190-1700 nm

厚度测量范围:1nm-250 μm

测量n&k最小厚度:50 nm

准确度:取较大值,1nm或0.2%

精度:0.02nm

稳定性:0.05nm

光斑大小:1.5mm

样品尺寸:直径从1mm到300mm或更大

二、 应用

半导体薄膜:光刻胶、工艺薄膜、介电材料

液晶显示:OLED、玻璃厚度、ITO

光学镀膜:硬涂层厚度、减反涂层

高分子薄膜:PI、PC


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